日本EUV光罩基底大厂170万个文件被盗：勒索1000万美元

据法国媒体LeMagIT报道，日本光学技术领导厂商 Hoya Corporation （豪雅）最近承认其遭遇了勒索软件的攻击，其总部和几个业务部门IT系统受到了影响。如果不支付1000万美元，其包括EUV掩模坯料和光掩模（光罩基底及光罩）在内的机密可能将会被曝光。

据报道，针对Hoya网络攻击是由“Hunters International”（国际猎人）发起的。该组织被认为是在美国联邦调查局与德国和荷兰执法部门合作打掉了臭名昭著的勒索软件组织 Hive 之后成立的。尽管有证据，但“Hunters International”否认与Hive有任何联系。

Hunters International要求Hoya支付1000万美元，才能解锁被勒索软件加密的文件。

作为交易的一部分，Hunters International承诺不发布其从Hoya 窃取的 170 万个文件（2TB 数据）中的任何一个。

官网资料显示，Hoya 于 1941 年在日本东京成立，是一家全球医疗技术公司，也是创新高科技和医疗产品的领先供应商。

Hoya 活跃于医疗保健和信息技术领域，提供眼镜、医用内窥镜、人工晶状体、光学镜片以、掩模坯料和光掩模（即光罩基底和光罩）、液晶面板光掩模和硬盘驱动器的的玻璃磁盘等关键部件。

目前 Hoya 在全球拥有约 160 个办事处和子公司，拥有约 36,000 名跨国员工。

据介绍，掩模坯料和光掩模在半导体芯片的生产中至关重要。它们是用于将半导体微小、高度复杂的电路图案转移到成为 IC 芯片的晶圆上的模板。

为了提高半导体的电路密度，目前极紫外（EUV）光刻技术的发展正在进行中，而HOYA正是全球最大的EUV光罩基底供应商。

近年来，随着EUV工艺在7nm及以下先进制程的广泛应用，推动了对于EUV光罩及其所需的EUV光罩基底的需求。

对此，HOYA也在持续扩大其在日本和新加坡的EUV光罩基底产能。HOYA CEO池田英一郎CEO曾表示：“半导体工艺若能突破2nm制程，豪雅便能在市场占据领先地位。”

报道称，由于Hoya是半导体行业的重要参与者，也是EUV光刻产品开发的领导者，因此，其商业机密对竞争对手或受到EUV技术出口限制的国家可能特别有价值。

所以，Hoya希望能够采取行动，以便数据不会被出售给或“意外”泄露给受制裁的国家。